H2 提純設備
工藝概述:
氫氣純化過程通常使用四個吸附塔,分別進行增壓、吸附、脫附與沖洗程式,四塔輪流變換以確保流量連續。吸附劑分為三層,第一層為氧化鋁或矽膠,吸附水分;第二層為活性碳,吸附CO2與碳氫化合物;第三層為5A分子篩,吸附O2、N2、CO與CH4等氣體。
產品規格:
產能:25~1,000 Nm3/hr,可依需求客製化設計。
工藝特點:
- 低能耗。
- 產品純度高,且可靈活調節。
- 工藝流程簡單。
- 自動化程度高。
- 投資小,操作費用低,維護簡單,檢修時間少,開工率高。
- 裝置可靠性高。