產品介紹 - H2

H2 提純設備

工藝概述:

氫氣純化過程通常使用四個吸附塔,分別進行增壓、吸附、脫附與沖洗程式,四塔輪流變換以確保流量連續。吸附劑分為三層,第一層為氧化鋁或矽膠,吸附水分;第二層為活性碳,吸附CO2與碳氫化合物;第三層為5A分子篩,吸附O2、N2、CO與CH4等氣體。


產品規格:

產能:25~1,000 Nm3/hr,可依需求客製化設計。


工藝特點:

  • 低能耗。
  • 產品純度高,且可靈活調節。
  • 工藝流程簡單。
  • 自動化程度高。
  • 投資小,操作費用低,維護簡單,檢修時間少,開工率高。
  • 裝置可靠性高。